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第83章 nm光刻机（第1页）

“龙脊”

工业园的落成和“洞察-III”

侦察卫星网络的成功组建，标志着华盟在宏观的机械制造、材料合成乃至航天领域取得了令人瞩目的成就。

然而，在“龙渊”

指挥中心的最深处，马小淘和李院长都清醒地意识到，华盟的未来，乃至整个文明升级的基石，并不仅仅在于这些“宏大”

的工程，更在于那微观尺度上的极致雕琢——更高精度的集成电路。

现有的“烛龙-I型”

i-line（365nm）光刻机虽然成功制造了“龙芯-I型”

处理器，但其0.8微米（800纳米）的制程和可怜的良品率，已经成为制约整个技术体系进一步发展的最大瓶颈。

更先进的火控计算机、卫星数据处理单元、“区域战略指挥网络”

的核心交换机、乃至未来可能的人工智能项目，都需要更强大、更精密的“大脑”

。

在“龙渊”

下属的微电子研发中心，气氛凝重。

硅魂和他的团队正面对着一面写满了公式、图表和问题清单的白板，一筹莫展。

“i-line光源的极限就在这里了！”

一位光学工程师用力点着白板，“365纳米的波长，衍射效应决定了我们的线宽极限就在0.8微米附近！

想要更精细，要么寻找更短波长的光源，要么…”

他顿了顿，说出了那个令人绝望的词，“…推翻重来！”

推翻重来？意味着要重新研发一套全新的光学系统、光源、乃至配套的光刻胶和工艺。

这对于刚刚站稳脚跟的华盟微电子工业来说，无异于一场豪赌。

硅魂推了推空气眼镜，眼中布满了血丝，但目光却异常坚定：“我们必须跨过去。

系统奖励的‘区域战略指挥网络’蓝图里，对核心处理器的算力要求是现在的十倍以上！

没有更先进的芯片，一切都是空谈。”

他转过身，看向团队：“i-line的路走到头了。

我们必须挑战深紫外（DUV）。

目标是——198纳米！

奥利给！

！

！”

198nm！